한․중 양국은 아래와 같이 <한․중 디자인포럼>을 개최할 예정이니 관심 있는 분들의 많은 참여를 바랍니다.

 

1. 포럼 개최일시 및 장소

 

2009.7.29(수)~7.30(목), 중국 산동성 청도

 

2. 디자인포럼 참가자

 

양 국가의 디자인 전문가 및 기업 관계자

 

3. 디자인포럼 주제 및 진행형식

 

o 포럼주제 (6개)

 

- 한국 특허청 관점에서 본 디자인 보호

 

- 한국 기업의 관점에서 본 디자인 보호

 

- 부분 디자인의 보호

 

- 디자인 출원과 관련된 문제

 

- 상표, 저작권, 디자인 보호의 중첩과 결합 분석

 

- 디자인의 상호, 유사 판단

 

 

o 포럼 진행형식

 

 

- 양 국가의 전문가가 발표하고, 참석한 기업체에서 질문, 발표자가 답변하는 형식

 

4. 디자인포럼 개최기관

 

o 주최기관 : 한국특허청, 중국국가지식산권국

 

o 협조기관 : 청도영사관, KOTRA(북경, 청도), 청도지식산권국

 

※ 디자인포럼 일정표

 

<2009.7.29>

※ 문의 : 주칭다오총영사관 원화영 (0532-8399-7713)

 

 

출처: 주칭다오대한민국총영사관